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硅靶材專用硅粉
濺射靶材是指通過真空鍍膜設備濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。根據生產方法可以分為粉末靶、熔煉靶和噴涂靶；按照形狀可以分為平面靶材和管狀靶材。高純硅作為粉末靶和噴涂硅靶材的原料，其純度越高越有助于靶材獲得均勻的晶體結構保證靶材的性能，同時提高硅原料利用率。
硅含量：百分之99.9-百分之99.999（3-5N）
粒度：0-3000目
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